반도체장비
FPD장비
Plating System
약품공급장치
R & D
Auto Wet Station
Silicon Wafer 의 식각, 세정을 목적으로 하는 Wafer 세정장치로 Silicon 기판상에 적층 형성되어 있는 막질을 제거 하기 위한 장비임.
 
Wafer Application : 5”, 6”, 8” and 12” Silicon wafer
방식 : Auto ~ Manual 대응
Processing Method : Cassetteless or Cassette
Type
Bath : Teflon & Quartz등
사용약액 : ACID, Organic, Alkali
Controller : PLC & Touch Based Control
Remark : Heating Unit
Chemical Circulation & Filtering
DIW 비저항계
G.U.I & Host On-Line 구현 가능