반도체장비
FPD장비
Plating System
약품공급장치
R & D
WIPER CLEANER
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CELL ETCHING 또는 CELL MASKING 박리 후 잔여 이물 제거 장비
 
Cell Application : 3”~10.1” Glass
방식 : Cassette or Tray, Manual Loading 가능
Processing Method : Vacuum Conveyor
  or Plate Air Knife Roll Brush
사용약액 : IPA, 메탄올, NTC, CW3, MIBK
Controller : PLC & Touch Based Control
Conveyor Size : 300mm
Tact Time : 1Cell / 3.5se (4.5” 기준)